㈱天谷製作所/常圧CVD装置

AMAX200/AMAX800/AMAX1200:連続式常圧CVD装置 SiH4/O2【大量生産向】
  主な用途 半導体デバイス・シリコンウェーハ裏面コート
  AMAX200 >>>> ~φ150mm ウェーハ対応。 スループット 57枚/hr
  AMAX800 >>>> ~ φ200mm ウェーハ対応。 スループット 55枚/hr
  AMAX1200 >>>> ~ φ300mm ウェーハ対応。
A6300 :連続式常圧CVD装置 SiH4/O2 【大量生産向】
  主な用途 半導体デバイス・シリコンウェーハ裏面コート・太陽電池等
  φ100~φ150mmウェーハ対応
  ダブルレーン方式で高スループットを実現 120枚/hr
AEC2200 / AEC2250 / AEC2260 :連続式常圧CVD装置 SiH4/O2
  主な用途 半導体デバイス


Contents/PDF

ページのトップへ戻る